Unidad de Nanotecnología

NANOTECHNOLOGY UNIT

La Unidad de Nanotecnología del CINN fué inaugurada en Julio de 2005 y está ubicado el el Edificio Severo Ochoa de los Servicios Científico-Técnicos de la Universidad de Oviedo en el "Campus del Cristo".

El laboratorio está enfocado en dos áreas principalmente:

• Fabricación en ambiente de sala limpia de micro y nanoestructuras mediante la utilización combinada  de las técnicas de litografía óptica y litografía por haz de electrones.

• Caracterización de micro y nanoestructuras en la nanoescala mediante técnicas de microscopía de barrido de punta en sus distintas modalidades (microscopía de efecto túnel, microscopía de fuerzas al aire y en celda de líquidos y microscopía de fuerza magnética).

Servicios Ofertados

Microscopía de Barrido

• Observación de superficies metálicas mediante Microscopía Túnel de Barrido (STM) con hasta pseudo-resolución atómica.

• Observación de superficies metálicas o aislantes mediante Microscopia de Fuerza Atómica (AFM) con caracterización de rugosidad y detección de hasta escalones monoatómicos.

Observación de muestras biológicas y medida de fuerzas mediante AFM. Caracterización de la interfase sólido-líquido mediante Microscopía de Fuerza Atómica (AFM) utilizando celda de líquidos.

• Observación de la configuración de dominios magnéticos en láminas delgadas mediante Microscopía de Fuerza Magnética (MFM).

Litografía por barrido de punta con oxidación local en sustratos de Si.

Nanotec Scanning Probe Microscope

Microscopio de barrido. Marca Nanotec

Litografía Óptica

Definición en ambiente de sala blanca de circuitos y chips, con dimensiones laterales tan pequeñas como 5 micras, mediante litografía óptica con radiación ultravioleta de 365 nm y 400 nm.

Quintel EXPO line 4k6 Mask Aligner for Optical Lithography

lineadora de Máscaras para Litografía Optica Quintel EXPO line 4k6

 

Litografía Electrónica

Definición de elementos o conjunto de elementos, con dimensiones laterales tan pequeñas como 50 nm, sobre sustratos o circuitos. La periodicidad del conjunto de elementos se puede obtener con la configuración y ordenación espacial predeterminadas a voluntad.

Microscopio electrónico LEO EVO 60 con Sistema de Litografía electrónica Raith Elphy Plus.

 

Reactive Ion Etching and Ion Beam Etching

RDecapado iónico reactivo (RIE) y por haz de iones (RIBE) para transferir las nanoestructuras definidas mediante litografía. Plasma homogéneo y paralelo en el rango 30 - 1000 eV.

Sistema RIE-RIBE KP 600 PBS de Kenosistec


Edificio Severo Ochoa, Campus de “El Cristo”
C/ Fernando Bonguera s/n, 33006. Oviedo

Head of Laboratory:

TARIFAS

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